技術(shù)指標:
(1)寬角掃描(俯仰向:±60°和方位向 0~360°)下陣列稀布優(yōu)化,單
元節省≥25%,副瓣電平≤-20dB;
(2)寬帶范圍內陣列稀布綜合與低副瓣優(yōu)化,單元節省≥20%;
(3)大規模稀布陣列波束賦形優(yōu)化(平頂/余割波束、多零陷等)。
創(chuàng ) 新 點(diǎn):
首次提出基于分塊矩陣 SVD 加速的大規模陣列稀布綜合與優(yōu)化設計方法,將
酉矩陣束方法推廣至陣列稀布優(yōu)化和寬帶寬角掃描應用場(chǎng)景,結合空間映射、高
效全波分析方法(特征模理論、區域分集、多層快速多極子)及并行技術(shù),自主
開(kāi)發(fā)出一套面向用戶(hù)的寬帶大規模陣列快速分析與稀布優(yōu)化軟件。